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可溶性聚酰亚胺LB膜对碳钢的缓蚀作用的研究

摘要撰写人 : TsingHua
浏览次数 : 8  词语: 300   出版日期: 五月 25, 1998
许多物质可以吸附在金属/溶液界面并形成薄膜,这种薄膜由于阻抑及负催化作用可以起缓蚀作用, 对于缓蚀剂薄膜中分子取向及聚集态、单分子层数等对缓蚀效率的影响,已进行了许多工作.但一 般地说,金属/溶液界面上对吸附分子的取向及聚集态进行直接表征和在分子水平上进行吸附界面 的设计是比较困难的.近年来发展起来的LB膜技术能把分子按设定的方式(分子密度、取向、吸 附层数等)沉积到固体表面,以制备分子电子器件和电化学分子器件等[1].因此,如把缓蚀剂 用LB膜技术修饰到金属表面,能直接建立吸附状态与缓蚀作用的关系,确定缓蚀机理,使缓蚀剂 的研究提高到分子水平.PI的稳定性和介电性可使之作为防腐膜[2,3],同时PI与金属的 膨胀系数相近,可以在很大的温度范围内在中性及酸性介质中对许多金属起保护作用.由于一般的 PI不溶于任何溶剂,因此近年来人们通过采用季胺盐向聚酰胺酸引入疏水基团,在固体基底上沉 积上LB膜后,去掉长链制备成PILB膜[4,5].这种方法比较繁琐,而且去掉长链的过程 使PILB膜的结构不可避免的发生变化.因此,我们合成了三种可溶于氯仿的PI,因而能在基 体表面直接沉积成LB膜.本文用三种PI在碳钢表面直接沉积成LB膜,并研究了PILB膜在 中性及酸性介质中对碳钢的的缓蚀能力.1实验方法1.1化学试剂三种可溶性PI(样品1#, 2#和3#)的结构在图1中表示.其它的化学试剂均为分析纯级1.2PILB膜电极的制备测 定表面压力和分子面积的关系曲线(π-A曲线)和PILB膜在碳钢电极上的组装是在吉林大学 研制的JC-1型拉膜机上进行.亚相为空气饱和的四次蒸馏水,0.5mmol/LPI样品的 氯仿溶液用作为铺展液滴在亚相上,待溶剂挥发后,沿水面施加一定表面压使之自组成膜.测定π -A曲线时滑障的速度2.0mN·m-1·min-1.所用基底电极为1cm×1cm×0. 3cm的20#碳钢,四周用环氧树脂封闭,正面用水砂纸逐级打磨至镜面,再经机械精密抛光. 挂膜压力为25mN·m-1,基片(电极)的升降速度为0.5cm·min-1.转移比为0 .8,采用Z型挂膜法.实验温度控制在(18±2)℃.1.3测试方法电化学测试用EG&G ,PARCCo.生产的MODEL-175信号发生器,MODEL-173恒电位仪,MOD EL-3655分析记录仪和三电极电解池进行.工作电极为PI浇铸膜修饰的碳钢电极,用于循 环伏安测量.其制备方法是把一定量的0.5mmol·L-1PI的氯仿溶液滴在抛光好的20 #碳钢电极表面,待氯仿挥发后,即在碳钢基体电极表面形成一层PI浇铸膜.对电极为铂片.参 考电极为饱和甘汞电极,文中所用的电位都是相对饱和甘汞电极而言的.在进行循环伏安测量时, 电解液为0.1mol·L-1NaClO4水溶液.交流阻抗谱测试使用M-273恒电位/恒 电流仪和M-5208双相锁定放大仪和常规的三电极电化学池.测量过程全部受计算机控制,检 测频率范围108~102Hz.LB膜的多次反射吸收红外光谱测试和标准样品的红外光谱测试 均在BIO-RADFTS-7型红外仪上进行.高倍电子显微镜摄象是用日本电子公司JEM- 2000EX型透射电子显微镜进行的,承膜基底是喷碳400目铜网.2结果与讨论图2是3种 PI浇铸膜电极在0.1mol/LNaClO4水溶液中的循环伏安图.在1#样品的循环伏安 图(图2a)中,只在第一次扫描中,在-1.25V出现一个羰基的还原峰,而观察不到氧化峰 ,以后继续扫描则看不到任何峰,这是因为PI中酰胺上的羰基氧还原后,直接与水中的H+结合 成C-OH形式的结构[6],这种结构在研究的电位区域中稳定性极高,不能发生氧化,因而造 成电化学反应的不可逆.样品2#和3#的循环伏安行为与样品1#相似,只是在第一次电位扫描 时,观察到两个还原峰,其一个还原峰起源于酰胺上的羰基氧的还原,另一个是由于桥键上的羰基 氧的还原[6].在循环伏安图的负电位区,析氢电位达-1.4V以上,表明PI膜的覆盖有效 阻止了H+向电极的渗透,能对酸性介质中的金属有很好的保护作用.图3是PI样品2#的LB 膜修饰电极在水溶液中还原前后的红外光谱图.在还原后很明显看到在3445cm-1处出现强 的-OH峰,表明PI的羰基氧还原后的确生成-OH,由于-OH的电化学稳定性,PI不能继 续进行氧化反应.图4是PI样品2#的LB膜的高倍透射显微图.由图可看到PI分子在LB膜 中排列比较均匀致密,取向完全相同.测量了PI样品1#、2#和3#在20mN·m-1的压 力下得到的LB单分子膜修饰碳钢电极和未修饰的碳钢电极在0.05mol·L-1H2SO4 中的电化学阻抗谱(EIS),图中只有一个半圆(图5).Fig.3TheIRspectr aofPI2#LBmonolayerbefore()andafter(--)reduc tionFig.4Thetransmissionelectronmicrographo fPI2#LBmonolayerFig.5TheEISofthecarbonsteel electrodesmodi-fiedwithout(○)andwith(●)theL BmonolayerofPI2#inthe0.05mol/LH2SO4solution Fig.6TheEISofthecarbonsteelelectrodemodi-fi edwith5LBmonolayersofPI2#inthe0.05mol/LH2SO 4solution用等效电路分析软件(EQUICRT.PAS)模拟得到PI样品1#、2 #和3#的LB膜修饰碳钢电极的电极腐蚀反应电阻Rt分别为475Ω、530Ω和515Ω, 而未修饰的碳钢电极的电极腐蚀反应电阻R0t为45Ω.PILB单分子膜对碳钢的缓蚀效率( η)应为:η=(Rt-R0t)/Rt·100%计算到得的3种样品的LB单分子膜的缓蚀效 率基本一致,分别为84%(1#)、86%(2#)和85%(3#).在EISNyquis t图中的高频处没有显示出第二时间常数明显特征,只出现一个不完整的小半圆,这是超薄膜覆盖 效应的特征.当PILB膜层数增加到5层时,PI样品2#的LB膜修饰碳钢电极的EIS如图 6所示,其Rt增至1975Ω,η达到98%.Fig.7TheEISofthecarbo nsteelelectrodemodifiedwithout(○)andwith(●) 3LBmonolayersofPI2#inthe0.5mol/LNaClsolutio n图7是修饰有3层PI样品2#的LB膜碳钢电极和未修饰的碳钢电极在中性介质0.5mol ·L-1NaCl溶液中的EIS图.由图可看出,EIS呈典型的高聚物覆盖层的电化学行为, 与涂层的EIS谱类似,为双曲线余切EIS谱,表明反应受扩散控制.用等效电路分析软件模拟 得到Rt=1.3×105Ω,η为99%(R0t=210Ω).3结论用LB技术把PI沉积 到碳钢表面,得到排列均匀而致密的单分子膜,交流阻抗的测量表明在中性和酸性介质中PILB 膜对碳钢有很好的缓蚀作用.一层PILB单分子膜的缓蚀效率可达85%左右,3~5层PIL B膜的缓蚀效率可达98%以上可溶性聚酰亚胺LB膜对碳钢的缓蚀作用的研究@邢巍@赵晖@李 悦生@丁孟贤@陆天虹$中国科学院长春应用化学研究所Langmuir-Blodget,膜 ,缓蚀剂,聚酰亚胺应用可溶性聚酰亚胺(PI)Langmuir-Blodgett(LB) 膜沉积在碳钢电极上,研究其在中性及酸性介质中对碳钢的缓蚀作用.结果表明PILB膜在中性 及酸性介质中对碳钢有较好的缓蚀作用,单分子层数目对缓蚀效率有很大的影响.1BinksB P.AdvancedinColoidandInterfaceScience,1991, 34:3432BelycciF,NicodemoL,MloppersT,Latanis ionRM.Coros.Sci.,1992,33:12033TenEK,Belycci F,MloppersT,LatanisionRM.Mater.Sci.Forum,19 92,111/112:1774NishikataY.PolymerJ.,1988,20 :2695NishikataY.PolymerJ.,1990,22:5936ZhuY, XingW,SunG,GuoD,etal.Chin.Chem.Let.,1995,6: 139金属腐蚀与防护国家重点实验室资助项目ionelectronmicrographo fPI2#LBmonolayerFig.5TheEISofthecarbonsteel electrodesmodi-fiedwithout(○)andwith(●)theL BmonolayerofPI2#inthe0.05mol/LH2SO4solution Fig.6TheEISofthecarbonsteelelectrodemodi-fi edwith5LBmonolayersofPI2#inthe0.05mol/LH2SO 4solution用等效电路分析软件(EQUICRT.PAS)模拟得到PI样品1#、2 #和3#的LB膜修饰碳钢电极的电极腐蚀反应电阻Rt分别为475Ω、530Ω和515Ω, 而未修饰的碳钢电极的电极腐蚀反应电阻R0t为45Ω.PILB单分子膜对碳钢的缓蚀效率( η)应为:η=(Rt-R0t)/Rt·100%计算到得的3种样品的LB单分子膜的缓蚀效率基本一致,分别为84%(1#)、86%(2#)和85%(3#).在EISNyquist图中的高频处没有显示出第二时间常数明显特征,只出现一个不完整的小半圆,这是超薄膜覆盖效应的特征.当PILB膜层数增加到5层时,PI样品2#的LB膜修饰碳钢电极的EIS如图

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